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SGN納米高剪切分散機

簡要描述:

SGN納米高剪切分散機    影響分散結果的因素有以下幾點
1 分散頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好)
2 分散頭的剪切速率(越大,效果越好)
3 分散頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
5 循環次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)
SGN高剪切分散機有多種規格如

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SGN納米高剪切分散機

SGN納米高剪切分散機,高速分散機,高剪切分散機德國高速分散機,超高速分散機  分散指將不溶固體顆粒分散到液體中在液體介質中的分散體系。在分散過程中,往往需要減小固體顆粒,這就是濕磨或高剪切分散。用SGN高剪切分散機輸入大量能量,可實現我們的目的。

如: GMG,膠質,穩定劑,增稠劑,農藥,其他物質的懸浮液 ,藥丸包衣,藥物解聚,涂料分散,唇膏,芥末混合物,催化劑,消光劑,顏料,石墨,油漆涂料,氧化鋁,復合肥料,油墨,填充劑,除草劑,殺菌劑,炭黑, 二氧化鈦 ,磨光劑, 金屬氧化物,納米材料,團聚粉末。 

 

SGN納米高剪切分散機    影響分散結果的因素有以下幾點

1 分散頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好)

2 分散頭的剪切速率(越大,效果越好)

3 分散頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

5 循環次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)

SGN高剪切分散機有多種規格如  GR2000,GRS2000,GRX2000高剪切分散機

 

產品說明: 德國SGN制造,百年歷史,享譽。該系列產品真正GSP/SSP功能,符合美國3A 認證。機器加工實施嚴格的質量控制,各部件經久耐用,運行穩定。在諸多跨國公司贏得*贊譽,如巴斯夫,拜爾,德固賽,邱博,杜邦,英威達,羅地亞,羅蓋特,歐萊雅,寶潔,高露潔,雀巢,達能,喜力,GE,BP,SHELL,中石化,中石油,中科院,等世界*公司。

 

SGN 2000系列在線設備的其他優勢: 

· 低噪聲標準

· 提高泵送、混合和分散效果

· 通過皮帶驅動,調速簡便。

· 立式設計,可自排空物料

· 由于集裝式設計,采用抗腐蝕材料的優質密封件,保養維修簡單。

· 高品質表面光潔度符合FDA / EHEDG的衛生要求

· 所有設備都有GSP/SSP能力

· 占地面積小

· 可以根據客戶要求提供防爆性能(ATEX)

· 可以根據客戶要求定制高品質處理的表面和特殊材料

 

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

– 轉子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子間距。
SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60

   高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據一些行業特殊要求,思峻公司在GR2000系列的基礎上又開發出GRS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過14000 rpm,轉子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,粒經分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設備。

高剪切均質分散機應用于:
混懸液
化妝品
色漿
顏料洗滌劑
漿糊
鹽溶液
催化劑
涂漆 、
聚合物乳化液
農藥(除草劑 殺蟲劑)

 

高剪切均質分散機特別應用于:
疫苗、
細胞破碎
膠體溶液、
金屬氧化物懸浮液、
墨水
印刷涂料
色素色漿  漿料

蒙脫石混懸液

鋁鎂加混懸液

布洛偽麻混懸液

磺胺嘧啶混懸液

磺胺二甲嘧啶混懸液 等等

 

 

 

超高速均質分散機設備等級:化工級、衛生S級、衛生SS級、無菌級
超高速均質分散機電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、氣動馬達
超高速均質分散機電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
超高速均質分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti
超高速均質分散機表面處理:拋光、耐磨處理
超高速均質分散機進出口聯結形式:法蘭、螺口、夾箍


高剪切均質分散機

標準流量(H2O)

輸出轉速

標準線速度

馬達功率

進出口尺寸

型號

l/h

rpm

m/s

kW

 

GRS 2000/4

300-1,000

14000

40

2.2

DN25/DN15

GRS 2000/5

1,000-1.5000

10,500

40

7.5

DN40 /DN 32

GRS 2000/10

3,000

7,300

40

15

DN50 / DN50

GRS 2000/20

8,000

4,900

40

37

DN80 /DN 65

GRS 2000/30

20,000

2,850

40

75

DN150 /DN 125

GRS 2000/50

40,000

2,000

40

160

DN200 /DN 150

 

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產品的要求。

3 參數內的各種型號的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。

 信息來源于www.sgnprocess。。com

產品相關關鍵字: CIK納米高剪切分散機 納米三級分散均質機 超高速納米分散機 高剪切研磨均質機 食品研磨分散機

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